Defect-Induced Magnetism in Oxide Semiconductors
Defect Induced Magnetism in Oxide Semiconductors (Defektinduzierter Magnetismus in Oxidhalbleitern) bietet einen Überblick über die neuesten Fortschritte in der Defekttechnik, um neue magnetische Materialien zu schaffen und neue technologische Anwendungen zu ermöglichen.
Das Buch führt zunächst in die Mechanismen, das Verhalten und die Theorie des Magnetismus in Oxidhalbleitern ein und gibt einen Überblick über die Methoden zur Induktion von Magnetismus in diesen Materialien. Dann werden Strategien wie die gepulste Laserabscheidung und das HF-Sputtern erörtert, um oxidische nanostrukturierte Materialien mit induziertem Magnetismus zu erzeugen. Es folgt ein Überblick über die wichtigsten Methoden zur Induktion von Magnetismus in Oxid-Halbleitern nach der Abscheidung, einschließlich Glühen, Ionenbestrahlung und Ionenimplantation. Beispiele für defektinduzierten Magnetismus in Oxidhalbleitern werden zusammen mit ausgewählten Anwendungen vorgestellt.
Defect Induced Magnetism in Oxide Semiconductors ist ein geeignetes Nachschlagewerk für Forscher an Hochschulen und Praktiker in Forschung und Entwicklung in der Industrie, die in den Bereichen Materialwissenschaft und Technik arbeiten.
| ISBN: | 9780323909075 |
| Autor: | |
| Verlag: | |
| Sprache: | Englisch |
| Einband: | Taschenbuch |
| Erscheinungsjahr: | 2023 |
| Seitenzahl: | 736 |
Derzeit verfügbar, auf Lager.
