
An Optical Profilometer for Ultra HighVacuum Conditions - Design, Construction, and Implementation
Um unsere Welt zu verstehen, ist es wichtig, die Naturgesetze zu kennen. Im Laufe der Jahrhunderte wurden diese Gesetze aus Messungen abgeleitet, aber es gibt immer noch eine Menge offener Fragen.
Eine dieser offenen Fragen ist die genaue Messung von Profilen unter sehr sauberen Bedingungen, die hiermit gelöst wird. Dieses Buch beschreibt im Detail den Entwurf, die Konstruktion und die Implementierung eines optischen Profilometers, das komplexe Oberflächenprofile unter Ultrahochvakuumbedingungen messen kann. Das Oberflächenprofil (im Vakuum) wird durch Abtasten eines optischen Sensors über ein Sichtfenster ermittelt.
Das Instrument wurde mit dem Ziel entwickelt, elektrostatisch verformte Siliziumwafer zu charakterisieren. Um die ausgewählten Wafer in die gewünschte Form zu biegen, ist ein abstimmbares elektrisches Feld von bis zu 25 MV/m erforderlich.
Um einen elektrischen Durchbruch des elektrostatischen Feldes zu verhindern, ist eine saubere UHV-Umgebung erforderlich. Dieses Buch dürfte für Wissenschaftler, Ingenieure und alle, die sich für Messungen interessieren, interessant sein.