Introduction to Ultrathin Silica Films: Silicatene and Others
Dies ist das erste Buch über die Herstellung, die Beschreibung auf atomarer Ebene und die Chemie von ultradünnen Siliziumdioxidschichten, die auf Metallsubstraten wachsen. Siliziumdioxid (SiO2) ist eines der Schlüsselmaterialien in vielen modernen technologischen Anwendungen.
Die weitere Miniaturisierung nanoelektronischer Bauelemente erfordert ein rationales Design ultradünner Siliziumdioxidfilme auf elektrisch leitfähigen Substraten. Immer mehr experimentelle und theoretische Ergebnisse bilden die Grundlage dafür, dass einschichtige Silikate in die Familie der wirklich zweidimensionalen Materialien eingeordnet werden und den Namen Silikate erhalten. Darüber hinaus eignen sich dünne Siliziumdioxidfilme gut für die Untersuchung chemischer Reaktionen auf Siliziumdioxidoberflächen.
Durch die Verwendung von dünnen Siliziumdioxidfilmen, die mit anderen Metallen modifiziert sind, können außerdem die Oberflächenstrukturen und die Chemie natürlicher Silikate, wie Tone und Zeolithe, untersucht werden. Schließlich können Studien an gut definierten Siliziumdioxidfilmen eine Beschreibung der Übergänge zwischen Kristall und Glas auf atomarer Ebene liefern.
| ISBN: | 9789814877282 |
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| Verlag: | |
| Sprache: | Englisch |
| Einband: | Hardcover |
| Erscheinungsjahr: | 2022 |
| Seitenzahl: | 312 |
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