Advances in Chemical Vapor Deposition
Das Streben nach einer skalierbaren Produktionsmethode für Materialien und deren Übergang vom Labor zur Industrie ist für neuartige Anwendungen im täglichen Leben von Vorteil.
Unter diesem Gesichtspunkt bietet die chemische Gasphasenabscheidung (CVD) einen Kompromiss zwischen Effizienz, Kontrollierbarkeit, Abstimmbarkeit und hervorragender Wiederholbarkeit bei der Aufbringung von Monoschichten auf Substraten. Daher erfüllt die CVD alle Anforderungen für eine industrielle Nutzung in praktisch allen Bereichen, einschließlich Polymerbeschichtungen, Metallen, Wasserfiltrationssystemen, Solarzellen und so weiter.
Die Sonderausgabe "Advances in Chemical Vapor Deposition" gibt einen Überblick über die neuesten experimentellen Erkenntnisse und ermittelt die Wachstumsparameter und Eigenschaften von Perowskiten, TiO2, Al2O3, VO2 und V2O5 mit den gewünschten Eigenschaften für potenziell nützliche Geräte.
| ISBN: | 9783039439232 |
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| Einband: | Hardcover |
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