Bewertung:
Die Rezensionen zu diesem Buch heben seine hervorragende Eignung als Quelle für das Studium der Plasmawissenschaften und seine gründlichen Aktualisierungen der Grundsätze der Plasmabearbeitung hervor. Das Buch ist gut geschrieben und gilt als eines der praktischsten und umfassendsten auf diesem Gebiet.
Vorteile:Gut geschrieben, gründlicher und aktualisierter Inhalt, sehr informativ für Plasmaphysik und -technik, leicht zu verstehen, umfassendes Hilfsmittel, ein Muss für Studenten und Fachleute der Plasmawissenschaften.
Nachteile:In den Rezensionen werden keine spezifischen Nachteile erwähnt.
(basierend auf 5 Leserbewertungen)
Principles of Plasma Discharges and Materials Processing
Eine gründliche Aktualisierung des Industrieklassikers über die Grundlagen der Plasmabearbeitung.
Die erste Ausgabe von Principles of Plasma Discharges and Materials Processing, die vor mehr als zehn Jahren veröffentlicht wurde, wurde für ihre umfassende Behandlung sowohl der grundlegenden Plasmaphysik als auch der industriellen Plasmabearbeitung gelobt und wurde schnell zum wichtigsten Nachschlagewerk für Studenten und Fachleute.
Die zweite Auflage wurde sorgfältig aktualisiert und überarbeitet, um den jüngsten Entwicklungen auf diesem Gebiet Rechnung zu tragen und die Darstellung der grundlegenden Prinzipien weiter zu verdeutlichen. Neben der eingehenden Behandlung der Grundlagen der Plasmaphysik und -chemie wenden die Autoren die grundlegende Theorie auf Plasmaentladungen an, einschließlich der Berechnung von Plasmaparametern und der Skalierung von Plasmaparametern mit Kontrollparametern.
Zu den neuen und erweiterten Themen gehören:
* Aktualisierte Querschnitte.
* Diffusion und Diffusionslösungen.
* Verallgemeinerte Bohm-Kriterien.
* Erweiterte Behandlung von Gleichstrommänteln.
* Langmuir-Sonden in zeitlich veränderlichen Feldern.
* Elektronegative Entladungen.
* Gepulste Leistungsentladungen.
* Zweifrequenz-Entladungen.
* Hochdichte Hochfrequenzmäntel und Ionenenergieverteilungen.
* Hysterese und Instabilitäten.
* Helikon-Entladungen.
* Entladungen mit Hohlkathoden.
* Ionisierte physikalische Gasphasenabscheidung.
* Differenzielle Substrataufladung.
Mit neuen Kapiteln über staubige Plasmen und die kinetische Theorie von Entladungen ist diese neue Ausgabe für Studenten und Forscher auf dem Gebiet der Plasmabearbeitung wertvoller denn je.
| ISBN: | 9780471720010 |
| Autor: | |
| Verlag: | |
| Sprache: | Englisch |
| Einband: | Hardcover |
| Erscheinungsjahr: | 2005 |
| Seitenzahl: | 800 |
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