Spectroscopic Ellipsometry for the In-situ Investigation of Atomic Layer Depositions
Projektbericht aus dem Jahr 2014 im Fachbereich Chemie - Sonstiges, Note: 1. 0, Technische Universität Dresden, Veranstaltung: Halbleitertechnik, Sprache: Deutsch: Englisch, Beschreibung: Die Atomlagenabscheidung (ALD) ist eine spezielle Art der chemischen Gasphasenabscheidung (CVD), die auf selbstbeendenden sequenziellen Gasreaktionen für ein konformes und präzises Wachstum bis in den Nanometerbereich basiert.
Aufgrund der selbstbeendenden Reaktionen ist ALD im Idealfall ein oberflächenkontrollierter Prozess, bei dem andere Prozessparameter als die Wahl der Ausgangsstoffe, der Substrate und der Abscheidungstemperatur nur einen geringen oder gar keinen Einfluss haben. Trotz der zahlreichen Anwendungen des ALD-Wachstums sind viele chemische und physikalische Prozesse, die das ALD-Wachstum steuern, noch nicht ausreichend verstanden. Ziel dieses studentischen Forschungsprojekts ist die Entwicklung eines ALD-Verfahrens für Aluminiumoxid (Al 2 O 3 ) aus Trimethylaluminium (TMA) und Ozon im Vergleich zu zwei Duschkopfdesigns.
Anschließend wurden die detaillierten Eigenschaften des Al 2 O 3 ALD-Prozesses mit Hilfe verschiedener Messtechniken wie spektroskopischer Ellipsometrie (SE), Röntgen-Photoelek- tronenspektroskopie (XPS) und Rasterkraftmikroskopie (AFM) untersucht. Das ALD-Wachstum in Echtzeit wurde mit In-situ-SE untersucht.
In-situ-SE ist eine sehr vielversprechende Technik, die sowohl die zeitkontinuierliche als auch die zeitdiskrete Messung des tatsächlichen Wachstums über die ALD-Prozesszeit ermöglicht. Die folgenden ALD-Prozessparameter wurden variiert und ihre gegenseitigen Abhängigkeiten im Detail untersucht: Belichtungszeiten von Precursor und Co-Reaktant sowie Argon-Spülzeiten, die Abscheidungstemperatur, der Gesamtprozessdruck und die Strömungsdynamik von zwei verschiedenen Duschkopfdesigns.
Die Auswirkungen der Variation dieser ALD-Prozessparameter wurden anhand der ALD-Zykluseigenschaften untersucht. Verschiedene ALD-Zyklusattribute sind: TMA-Moleküladsorption (M ads ), Ligandenentfernung (L rem ), Wachstumskinetik (K O3 ) und Wachstum pro Zyklus (GPC).
| ISBN: | 9783656923152 |
| Autor: | |
| Verlag: | |
| Sprache: | Englisch |
| Einband: | Taschenbuch |
Derzeit verfügbar, auf Lager.
