Chemische Gasphasenabscheidung von Wolfram und Wolframsiliziden für Vlsi/ ULSI-Anwendungen

Originaltitel:

Chemical Vapor Deposition of Tungsten and Tungsten Silicides for Vlsi/ ULSI Applications

Inhalt des Buches:

Diese Monographie fasst die relevante und einschlägige Literatur über die flächendeckende und selektive CVD von Wolfram (W) in einem einzigen überschaubaren Band zusammen.

Das Buch liefert dem Leser das nötige Hintergrundwissen, um ein CVD-W-Verfahren in einer Produktionsanlage einzuführen, fein abzustimmen und erfolgreich zu betreiben. Beschrieben werden die Chemie der Materialabscheidung, die Ausrüstung, die Verfahrenstechnik, die Entwicklungen und die Anwendungen.

Weitere Daten des Buches:

• ISBN: 9780815512882
• Autor: Schmitz John E. J.
• Verlag: William Andrew Inc
• Sprache: Englisch
• Einband: Hardcover